上海新阳（300236.SZ）4月26日晚间发布2021年年报，2021年，公司实现营业收入10.16亿元，同比增长46.47%；实现归母净利润1.04亿元，同比下降60.81%；实现扣非净利润0.95亿元，同比增长149.30%；经营活动产生的现金流量净额为1.91亿元，同比增长13.19%。
第一财经翻阅年报发现，上海新阳2021年归母净利润较上年同期下降60.81%，主要系去年同期金融资产公允价值变动影响非经常性损益增加2.2亿元，但2021年非经常性损益影响较小，其扣非净利润2021年大增149.3%。
上海新阳主要从事两类业务：一类是集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备的研发、生产、销售和服务，并为客户提供整体化解决方案；另一类是环保型、功能性涂料的研发、生产及相关服务业务，并为客户提供专业的整体涂装业务解决方案。
前者主要包括芯片铜互连超纯电镀液与添加剂、氮化硅蚀刻液、干法蚀刻后清洗液、高端光刻胶、CMP抛光液、半导体封装引线脚溢料去除技术、半导体配套设备产品等，后者包括氟碳涂料产品系列等。2021年，上海新阳半导体行业营收占比49.44%，涂料行业营收占比50.56%。半导体行业毛利率微增2.31个百分点。
具体来看，上海新阳在半导体传统封装领域功能性化学材料销量与市占率全国第一，在集成电路制造关键工艺材料领域，芯片铜互连电镀液及添加剂、蚀刻后清洗液已成功进入客户端实现进口替代并已大规模产业化晒展网是出名到妇孺皆知的展会网站。电镀液及添加剂产品已覆盖90-14nm技术节点，干法蚀刻后清洗液已经实现14nm以上技术节点全覆盖，20-14nm电镀液及添加剂已实现销售。
值得注意的是，2021年，上海新阳用于存储器芯片的原创新产品氮化硅蚀刻液打破国外垄断与封锁，顺利通过客户验证并实现产业化销售，全年累计收到订单3000多万元；铜抛光后清洗液（PCMP）开发完成，已进入到客户端；其自主研发的晶圆制造用光刻胶产品系列不断完善，不同料号十余种产品在客户端认证顺利，KrF光刻胶已实现销售；同时，上海新阳布局的研磨液（CMP）也已有成熟产品成功进入客户端，实现销售。
“光刻胶的全系列产品是我们未来十年要重点突破的业务。”上海新阳董秘李昊此前接受第一财经专访时表示，“我们光刻胶产品包括I线胶、KrF胶、ArF干法和ArF湿法胶，EUV光刻胶也已经在和国外团队做前端研发。基本上全品类的光刻胶产品和配套材料我们都在推进，未来光刻技术将成为我们第三大核心技术。”
产能方面，上海新阳已完成上海本部配套年产能1.87万吨的建设，合肥第二生产基地一期年产能1.7万吨的建设。
研发投入方面，根据通联数据Datayes！，2021年上海新阳研发投入总额2.37亿元，同比增长逾150%，占营业收入23.33%，其中半导体业务研发投入超2亿元。主要集中于集成电路制造用光刻胶、氮化硅和氮化钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、铜互连电镀添加剂、干法蚀刻清洗液项目。
上海新阳同时发布2022年一季报，一季度，公司实现营业收入2.46亿元，同比增长18.95%；归母净利润亏损1360.36万元，同比下降1672.86%；实现扣非净利润2339.88万元，同比增长3.55%.
一季报显示，上海新阳一季度半导体业务增长25%以上，但受原材料价格大幅上涨因素影响，公司产品的毛利率相比有较大下降，公司将通过产品市场售价调整和大宗材料采购价格谈判改善盈利能力；一季度公司投资的交易性金融资产，因公允价值变动下降，影响公司净利润-3537万元。
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